Китайская компания SMIC совершила важный технологический прорыв, сумев наладить производство 5-нанометровых микросхем без использования экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), доступ к которой был ограничен западными санкциями.

Инженеры применили устаревшие установки ультрафиолетовой литографии (DUV) в сочетании со сложной техникой многократного самосовмещенного шаблонирования (SAQP). Эта методика, несмотря на более высокие затраты, меньшую скорость и вероятность ошибок, доказала свою эффективность. Уже известные устройства, такие как процессор Kirin 9000S, использующий эту технологию, функционируют в современных смартфонах Huawei Mate 60.

Долгие годы считалось невозможным создавать чипы меньшего размера 7 нм без применения EUV-литографии, выпускаемой только компанией ASML из Нидерландов. Однако SMIC показала обратное, максимально используя устаревшие технологии. По данным инсайдеров, компания экспериментирует с достижением 3 нм.

Этот технологический скачок может кардинально изменить мировую индустрию. Способность Китая самостоятельно производить передовые чипы ослабит влияние западных санкций и разрушит существующую технологическую монополию.

Кроме того, такой успех может подтолкнуть международных разработчиков к новым инновациям, чтобы сохранить конкурентное превосходство. Прорыв SMIC показывает, что законы Мура продолжают действовать, только переехав в Шанхай.

Источник: @droidergram