SMIC достигла прорыва в производстве 5-нм чипов без EUV-технологии

Китайская компания SMIC совершила важный технологический прорыв, сумев наладить производство 5-нанометровых микросхем без использования экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), доступ к которой был ограничен западными санкциями. Инженеры применили устаревшие установки ультрафиолетовой…